2차원 소재 상용화를 위한 길, 자외선 원자층 공정으로 한 걸음 더

고품질 그래핀-유전막 계면 구현 관련 이미지. <포스텍 제공>

고품질 그래핀-유전막 계면을 구현하는 원자층 공정 및 장비 기반 기술이 개발됐다. 그래핀(Graphene)은 매우 얇고 유연하면서도 강도와 전기 전도성이 우수해 '꿈의 신소재'로도 불린다.

26일 포스텍(포항공과대학교)은 포스텍 기계공학과 안지환 교수, 싱가포르 난양공대 기계공학과 신정우 박사, 서울과학기술대학교 MSDE(생산시스템·설계공학)학과 박건우 연구원 공동 연구팀이 그래핀 전극 표면에 직접 개발한 자외선 보조 원자층 증착 공정(이하 UV-ALD)을 적용해 고품질의 그래핀-유전막 계면을 구현했다고 밝혔다.

이번 연구에서 연구팀은 최초로 2차원 소재인 그래핀 표면 유전막 증착 공정에 UV-ALD를 적용했다. '원자층 증착 공정(Atomic layer deposition, 이하 ALD)'은 기판에 원자층 단위로 두께가 제어되는 매우 균일하고 얇은 막을 입히는 방법으로, 최근 반도체 소자의 미세화에 따라 중요성 및 활용도가 급격히 상승하고 있다.

이 공정에 자외선을 결합한 UV-ALD은 기존 ALD에 비해 치밀한 유전막 증착이 가능하다고 알려져 있으나, 그래핀과 같은 2차원 소재 가공 공정에 적용된 사례는 없었다.

연구팀은 그래핀 표면상 원자층 유전막 증착 시 저에너지(10eV 이하) 자외선을 조사해주며 공정을 진행했다. 그 결과, 특정 조건(공정 사이클 당 5초 이내)에서 특성 저하 없이 그래핀 표면을 활성화함과 동시에 저온(100℃ 이하)에서도 고밀도·고순도 원자층 유전막 증착이 가능함을 입증했다.

또한 UV-ALD 공정을 활용한 그래핀-유전막 기반 트랜지스터(Graphene-FET) 구현 시, 그래핀의 우수한 전기적 특성이 그대로 보존돼 기존 ALD 공정 활용 대비 전하 이동도가 약 3배 높아짐과 동시에, 그래핀 표면 결함 감소로 인해 디락 전압도 크게 낮아지는 것으로 확인됐다.

안지환 교수는 "2차원 소재 특성 저하 없이 균일한 원자층 유전막을 증착한 이번 연구 결과가 향후 2차원 소재 기반의 차세대 반도체 소자 및 에너지 소자 공정 개발에 도움이 되길 바란다"고 말했다.

한편, 이 연구는 해당 분야 국제 저명 학술지인 '어드밴스드 일렉트로닉 머티리얼즈(Advanced Electronic Materials)' 7월호 표지 논문(front cover article)으로 게재됐다.

전준혁기자 jjh@yeongnam.com

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